主要规格及技术指标

1 单室立式圆柱形结构的超高真空等离子体增强化学气相沉积设备（内腔体积大致为φ650 mm×H400mm），可用于制备各种功能薄膜。
2 系统构成：真空反应室、一台射频电源（1000VA），真空获得系统（使用一套1200升分子泵系统）、真空测量系统、基片加热系统、基片旋转系统、电控系统、气路系统等组成。
3 工作真空度：1～1000Pa；
4 系统真空：使用分子泵系统，极限真空度8.0×10-5Pa以上，溅射室在工作状态可达8.0×10-4Pa，从大气开始达到工作状态的抽真空时间不大于40分钟。停泵关机12小时后真空度≤5Pa；
5 样品台：样品台可加热。室温～650℃。一次放进一块（φ8inch）样品。样品台可在制膜室内由电机驱动作圆周运动，运动速度可调，保证制膜均匀。

主要附件及配置

真空反应室、一台射频电源（1000VA），真空获得系统（使用一套1200升分子泵系统）、真空测量系统、基片加热系统、基片旋转系统、电控系统、气路系统

主要功能及特色

制备纳米功能薄膜