主要规格及技术指标

离子源
离子束能量 0.8－9keV
离子枪电流 0－3.5mA (每个离子源)
离子束半高宽 0.8mm (10keV条件下)，2.5mm (2keV条件下)
工作气体 高纯氩气99.999%
离子枪
离子枪 两把鞍型场枪，可对样品的大面积区域进行离子抛光或减薄，抛光区域≥20mm直径
离子枪倾斜角度 每把枪≥±30°(设置精度±0.1°)
离子束相对样品研磨角度 0°－ 90° (依据不同的样品台)
样品台
配备样品台 TEM和SEM样品台各一套
样品台旋转转速 0.6－8

主要附件及配置

主要有EM RES102主机、离子枪和样品台

主要功能及特色

对样品薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。