3英寸基片可达200°C/s; 带质量流量控制器的气体混合性能;真空范围: 大气 至 10-2 Torr (10-6 Torr带可选分子泵);热电偶温度测量及快速数字PID控制;确保温度范围内高效稳定的控制温度;可选高温计控制;设备提供完整电脑控制功能;带兼容Windows的软件
主机、电脑、碳化硅托盘;热电偶;冷水机
3英寸真空快速退火炉(快速热处理炉)RTP;便携式桌面配置;用于研发;样品尺寸:平方毫米 至 3-inch 直径;可选 3-inch 基片托适用 2-inch 样品;工艺腔室带石英管和不锈钢法兰;管式红外卤灯炉;极快的升温速率;带石英托盘的水平移动门板,便于装卸基片;配备热电偶。
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