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气相沉积及表面处理系统
仪器编号
TY2023004374
规格
生产厂家
沈阳新蓝天真空技术有限公司
型号
RPE-CVD-300
制造国家
中国
购置日期
2019-08-23
放置地点
Array 实验楼110-1
出厂日期
2019-04-26
主要规格及技术指标
射频500W可调，诱导耦合ICP激发远程气体等离子体，采用碳化硅样品加热台可实现室温到600℃可变温控。ICP天线位置可调可控制等离子体产生的位置，配备负极偏压装置实现等离子体流向控制提高成膜的质量等离子体表面处理效率；6路气体进气，2路高精度MFC质量流量计控制进气，两真空腔体均采用金属密封，真空度可达8×10-6Pa。整机漏率≤1×10-8Pa.L/s。
主要附件及配置
无
主要功能及特色
可进行氢气，氮气，氧气，氩气等多种气体的等离子体表面处理。
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
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暂无收费标准
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