主要规格及技术指标

1、反应器内径≥150毫米，满足基片尺寸≥4英寸要求；
2、前体管路配置4路源，每路采用进口耐高温、高速专用电磁阀门，工作压力范围：真空～10.0bar，工作温度：0～200℃；
3、沉积厚度均匀性偏差：< +/- 1%（以三甲基铝和水为前体沉积Al2O3为参考，沉积温度150 ℃）；
4、温控系统采用8通道高精度PID温控系统，温控精度±0.1 ℃；

主要附件及配置

无

主要功能及特色

全自动粉末原子层沉积系统是一种高级薄膜制备技术，可实现单层、亚单层、埃级别的精准厚度控制，在原子水平上控制沉积物的形成和生长，并对纳米材料的形貌无特殊要求，能够在平面、粒子、纤维、多孔以及复杂结构上沉积所需物种；该设备可用于纳米材料、交叉学科新材料设计及制备，还可用于高分子材料、能源与环境等相关领域的科学研究。